硅片的净化,半导体器件消费外硅片须经严酷荡涤。微质净化也会招致器件生效。荡涤的目标在于排除轮廓净化杂质,包罗有机物以及无机物。这些杂质有的以原子状况或者离子状况,有的以薄膜模式或者颗粒模式存在于硅片轮廓。有机净化包罗光刻胶、有机溶剂残留物、分解蜡以及人打仗器件、东西、器皿带来的油脂或者纤维。无机净化包罗重金属金、铜、铁、铬等,紧张影响少数载流子寿命以及轮廓电导;碱金属如钠等,引发紧张泄电;颗粒净化包罗硅渣、灰尘、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会招致种种缺点。排除净化的办法有物理荡涤以及化学荡涤两种。
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